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電鍍技術(shù)

潤(rùn)錦介紹:真空電鍍及工藝流程

新聞來(lái)源:本站發(fā)布日期:2017-01-05發(fā)布人:admin

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濕法工藝:
1.化學(xué)浸鍍
2.電鍍
3.噴導(dǎo)電涂料
干法工藝
1.真空蒸鍍
2.陰極濺鍍
3.離子鍍
4.燙金

5.熔融噴鍍


真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬,使其熔融、蒸發(fā),冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。

常 用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。


加熱金屬的方法:

有利用電阻產(chǎn)生的熱能,也有利用電子束的。


在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí),為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形,必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。 此外,熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。


置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發(fā)或升華,金屬蒸汽遇到 冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。


在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過(guò)程中和其他分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa,對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合,則 要求壓力更低( 10-5Pa )。


鍍層厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附著力差,易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90%

** 真空離子鍍,又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法,做出來(lái)的產(chǎn)品金屬感強(qiáng),亮度高. 而相對(duì)其他的鍍膜法來(lái)說(shuō),成本較低,對(duì)環(huán)境的污染小,現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用.


真空電鍍適用范圍較廣,如ABS料、ABS+PC料、PC料的產(chǎn)品.同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高,單價(jià)比水電鍍昂貴.現(xiàn)對(duì)其工藝流程作簡(jiǎn)要介紹:產(chǎn)品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆 --〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.


一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆,再做電鍍.由于素材是塑料件,在注塑時(shí)會(huì)殘留空氣泡,有機(jī)氣體,而在放置時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分.另外,由于塑料表面不夠平整,直接電鍍的工件表面不光滑,光澤低,金屬感差,并且會(huì)出現(xiàn)氣泡,水泡等不良狀況.噴上一層底漆以后,會(huì)形成一個(gè)光滑平整的表面, 并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生,使得電鍍的效果得以展現(xiàn).


真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等.


水電鍍因工藝較簡(jiǎn)單,從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻,從而被廣泛應(yīng)用.但水電鍍有個(gè)弱點(diǎn),只能鍍ABS料和ABS+PC料(此料鍍的效果也不是很理想).而ABS料耐溫只有80℃,這使得它的應(yīng)用范圍被限制了.而真空電鍍可達(dá)200℃左右,這對(duì)使用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了.像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用PC料,這些部件均要求耐130℃的高溫.另,一般要求耐高溫的部件,做真空電鍍都要在最后噴一 層UV油,這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時(shí)又保證附著力.


兩種工藝的優(yōu)缺點(diǎn):
A、簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),真空電鍍不過(guò)UV油,其附著力很差,無(wú)法過(guò)百格TEST,而水電鍍的明顯好于真空電 鍍!因此,為保證真空電鍍的附著力,均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理,成本當(dāng)然高些.
B、水電鍍顏色較單調(diào),一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種,對(duì)于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花 八門的七彩色就無(wú)能為力了.而真空電鍍可以解決七彩色的問(wèn)題.
C、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價(jià)鉻”,這是非環(huán)保材料.對(duì)于“六價(jià)鉻”有如下的要求:
歐盟: 76/769/EEC:禁止使用; 94/62/EC:<100ppm;

ROHS:<1000ppm


如此嚴(yán)格的要求,國(guó)內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價(jià)鉻”來(lái)替代“六價(jià)鉻”;而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì) 廣泛、容易符合環(huán)保要求.


簡(jiǎn)單一點(diǎn),就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過(guò)等離子體離化后沉積在工件表面的 表面處理技術(shù).


它有真空蒸發(fā)鍍,濺射鍍,離子鍍等,獲得這些沉積方法的途徑有多種:電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法,可以根據(jù) 的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備.


對(duì)于傳統(tǒng)的濕發(fā)電鍍,真空電鍍具有以下優(yōu)點(diǎn):

1.沉積材料廣泛:可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無(wú)法沉積的低電位金屬,通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可 以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系.


2.節(jié)約金屬材料:由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良,沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn) 小于常規(guī)濕法電鍍鍍層,達(dá)到節(jié)約的目的.


3.無(wú)環(huán)境污染:由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面,沒有溶液污染,所以 對(duì)環(huán)境的危害相當(dāng)小.


但是由于獲得真空和等離子體的儀器設(shè)備精密昂貴,而且沉積工藝還掌握在少數(shù)技術(shù)人員手中,沒有大量被推廣,其投資和日常生產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用昂貴.但是隨著社會(huì)的不斷進(jìn)步,真空電鍍的優(yōu)勢(shì)會(huì)越來(lái)越明顯,在 某些行業(yè)取代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢(shì)所趨!


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